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RIE-PE刻蝕機(jī)是一種高精度的半導(dǎo)體加工設(shè)備，被廣泛應(yīng)用于集成電路、MEMS和納米器件制造等領(lǐng)域。RIE-PE刻蝕技術(shù)是通過(guò)刻蝕氣體的等離子體在材料表面產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)和物理作用，從而實(shí)現(xiàn)高精度的微米、亞微米和納米級(jí)圖形加工的一種高效的方法?；驹硎抢玫入x子體在氧化物表面引起化學(xué)反應(yīng)的方式進(jìn)行淺刻蝕，然后使用惰性氣體進(jìn)行深刻蝕。這種刻蝕方法在半導(dǎo)體器件制造中得到了廣泛應(yīng)用，可實(shí)現(xiàn)精度在上微米（NM）量級(jí)以上的高精度加工。主要特點(diǎn)是能夠控制等離子體的氣氛、壓力、功率、速率等參...

微波等離子去膠機(jī)是一種利用微波輻射和等離子技術(shù)將膠水分解、熱分解或氧化分解成氣態(tài)或液態(tài)的設(shè)備，主要用于去除化學(xué)膠、丙烯酸膠、雙面膠、硅膠等膠水。一、工作原理工作原理是：使用微波輻射將膠水加熱，膠水分子振動(dòng)并迅速升溫，膠水熱解并釋放出揮發(fā)性有機(jī)物，形成等離子體，并通過(guò)化學(xué)反應(yīng)消除揮發(fā)性有機(jī)物，使膠水揮發(fā)，從而達(dá)到去除膠層的目的。二、使用方法1.準(zhǔn)備工作（1）將微波等離子去膠機(jī)放置在干燥、通風(fēng)位置。（2）檢查機(jī)器是否正常運(yùn)行，確認(rèn)電源和加熱是正常的。（3）將待去除膠水的物品放在去...

等離子去膠機(jī)具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。等離子去膠機(jī)主要性能：1.開放式設(shè)計(jì)，可快速加載和卸載晶圓。2.基片放置在石英上，以避免濺射/再沉積電極材料3.通過(guò)頂部電極上的“蓮蓬頭”進(jìn)氣口將氣體注入工藝室4.電感耦合等離子體(ICP)和電極的獨(dú)立射頻發(fā)生器提供對(duì)離子能量和離子密...

微波等離子清洗機(jī)是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。微波等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì)：1、清洗對(duì)象經(jīng)清洗機(jī)之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢蕴岣?..

光學(xué)鍍膜系統(tǒng)無(wú)論是無(wú)機(jī)材料還是有機(jī)材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫（氧化硅）的摩擦都會(huì)造成鏡片磨損，在鏡片表面產(chǎn)生劃痕。與玻璃片相比，有機(jī)材料制成的硬性度比較低，更易產(chǎn)生劃痕。通過(guò)顯微鏡，我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產(chǎn)生的劃痕，淺而細(xì)小，戴鏡者不容易察覺(jué)；另一種是由較大砂礫產(chǎn)生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區(qū)域則會(huì)影響視力。光學(xué)鍍膜系統(tǒng)特點(diǎn)分類：主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等，它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和...

熱真空環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環(huán)套件下測(cè)試器件或樣品。該系統(tǒng)具有計(jì)算機(jī)控制、安全連鎖，以及多級(jí)密碼授權(quán)訪問(wèn)保護(hù)的功能。它可以用于超過(guò)24小時(shí)的圈子全自動(dòng)熱、冷循環(huán)情況下測(cè)試器件/樣品，溫度條件通過(guò)程序定義。該系統(tǒng)通常的應(yīng)用之一是太空模擬。系統(tǒng)腔體的大致尺寸為：直徑24"，長(zhǎng)度43"。帶有一個(gè)16"x32"的滑動(dòng)加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺(tái)也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個(gè)平臺(tái)的溫度均勻度可達(dá)/-1攝氏度。...

進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)及特點(diǎn)：1.配置電子束及電阻蒸發(fā)系統(tǒng)；2.電子槍在整個(gè)蒸發(fā)過(guò)程中膜料表面平整，蒸發(fā)分布均勻；3.配置石英晶體膜厚控制儀可實(shí)現(xiàn)成膜速度和鍍膜過(guò)程的自動(dòng)控制；4.配置大功率離子源，保證膜層質(zhì)量；5.總體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，操作方便。進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)的清...

掩模板清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來(lái)愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，微波等離子清洗機(jī)發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。微波等...