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兆聲清洗機(jī)是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。兆聲清洗機(jī)具有以下特點(diǎn)：1、械手或多機(jī)械手組合，實(shí)現(xiàn)工位工藝要求。2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面，操作便利。3、...

硅片清洗機(jī)是利用超聲波清洗技術(shù)，在清洗過程中超聲波頻率在合理的范圍內(nèi)往復(fù)掃動(dòng)，帶動(dòng)清洗液形成細(xì)微回流，使工件污垢在被超聲剝離的同時(shí)迅速帶離工件表面，提高清洗效率。一、硅片清洗機(jī)的工作原理是什么1、真空脫氣，有效去除液體中氣體，且運(yùn)用拋動(dòng)功能，增強(qiáng)超聲對(duì)工件表面油污和污垢的清洗能力，縮短清洗時(shí)間。2、洗籃轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，重疊不可分拆的零件或形狀復(fù)雜的零件，也可做到均勻完整的清洗。3、減壓真空系統(tǒng)，能吸出盲孔、縫隙及疊加零件之間的空氣，使超聲波在減壓的狀態(tài)下產(chǎn)生驚人的清洗效果。4、真空...

微波等離子去膠機(jī)適用于小批量生產(chǎn)和研發(fā)的設(shè)備。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要。AL18系統(tǒng)是一款創(chuàng)新型的通用設(shè)備，可選配旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤，及ECR(電子回旋共振)裝置。微波等離子去膠機(jī)的工作原理：氧等離子去膠是利用氧氣在微波發(fā)生器的作用下產(chǎn)生氧等離子體，具有活性的氧等離子體與有機(jī)聚合物發(fā)生氧化反應(yīng)，是的有機(jī)聚合物被氧化成水汽和二氧化碳等排除腔室，從而達(dá)到去除光刻膠的目的，這個(gè)過程我們有時(shí)候也稱之為灰化或者掃膠。氧等離子去膠相比于濕法去膠工藝更為簡(jiǎn)單、適應(yīng)性更好，去膠過程純...

主要功能：主要用于半導(dǎo)體應(yīng)用，及各種需要進(jìn)行微納工藝濺射鍍膜的情形?？梢杂糜诮饘俨牧希ń稹y、銅、鎳、鉻等）的直流濺射、直流共濺射，絕緣材料（如陶瓷等）的射頻濺射，以及反應(yīng)濺射能力。基片可支持硅片，氧化硅片，玻璃片，以及對(duì)溫度敏感的有機(jī)柔性基片等。工作原理：通過分子泵和機(jī)械泵組成的兩級(jí)真空泵對(duì)不銹鋼腔體抽真空，當(dāng)廣域真空計(jì)顯示的讀數(shù)達(dá)到10-6Torr量級(jí)或更高的真空時(shí)，主系統(tǒng)的控制軟件通過控制質(zhì)量流量計(jì)精確控制Ar氣體(如需要濺射氧化物薄膜，可增加O2)，此時(shí)可以設(shè)定工藝所...

微波等離子去膠清洗機(jī)是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中的犧牲層去除。下面為大家介紹微波等離子去膠清洗機(jī)使用中的四大影響因素，希望對(duì)大家有所幫助。一、調(diào)整合適的頻率：頻率越高，氧越容易電離形成等離子體。如果頻率過高，使電子振幅短于其平均自由程，電子與氣體分子碰撞的概率就會(huì)降低，導(dǎo)致電離率降低...

離子銑刻蝕系統(tǒng)是利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。離子銑刻蝕系統(tǒng)的原理：氬氣在輝光放電原理的作用下被分解為氬離子，氬離子通過陽極電場(chǎng)的加速物理轟擊樣品表面來使得刻蝕的作用達(dá)到。往離子源放電室充入氬氣并且使其電離使得等離子體形成，然后通過柵極引出離子呈束狀并且加速，往工作室進(jìn)入一定能量的離子束，往固體表面射向?qū)腆w表面原子進(jìn)行轟擊，使材料原子發(fā)生濺射，使刻蝕目的達(dá)到，屬于純物理刻蝕...

兆聲清洗機(jī)不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點(diǎn)，而且克服了它的不足。在清洗時(shí)，由換能器發(fā)出波長(zhǎng)為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動(dòng)下作加速運(yùn)動(dòng)，最大瞬時(shí)速度可達(dá)到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細(xì)小微粒被強(qiáng)制除去并進(jìn)入到清洗液中。兆聲清洗機(jī)的操作規(guī)程：1、遵守鑄造設(shè)備通用操作規(guī)程。2、工作前還必須遵守：a、檢查管路系統(tǒng)有無漏氣漏水的情況，如有這種情況，應(yīng)通知維修人員修理。b、檢查清洗...

ICP刻蝕機(jī)是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝，包括刻蝕III-V化合物(如GaAs，InP，GaN，InSb)、II-VI化合物、介質(zhì)材料、玻璃、石英、金屬，以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。ICP刻蝕機(jī)的工作原理：感應(yīng)耦合等離子體刻蝕法(InductivelyCoupledPlasmaEtch，簡(jiǎn)稱ICPE)是化學(xué)過程和物理過程共同作用的結(jié)果。它的基本原理是...