光學(xué)鍍膜系統(tǒng)是改變光學(xué)零件表面特征而鍍在光學(xué)零件表面上的一層或多層膜?？梢允墙饘倌?、介質(zhì)膜或這兩類膜的組合。光學(xué)薄膜是各種先進光電技術(shù)中*的一部分，它不僅能改善系統(tǒng)性能，而且是滿足設(shè)計目標(biāo)的必要手段，光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域設(shè)及光學(xué)系統(tǒng)的各個方面，包括激光系統(tǒng)，光通信，光顯示，光儲存等，主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。下面就由小編具體為大家介紹分析
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的基礎(chǔ)知識，以作為參考希望能夠幫助到大家。
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的定義是：
涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層，通過分層介質(zhì)膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性，以達(dá)到我們想要的在某一或是多個波段范圍內(nèi)的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態(tài)的光。
光學(xué)薄膜在我們的生活中無處不在，從精密及光學(xué)設(shè)備、顯示器設(shè)備到日常生活中的光學(xué)薄膜應(yīng)用；比方說，平時戴的眼鏡、數(shù)碼相機、各式家電用品，或者是鈔票上的防偽技術(shù)，皆能被稱之為光學(xué)薄膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。倘若沒有光學(xué)薄膜技術(shù)作為發(fā)展基礎(chǔ)，近代光電、通訊或是鐳射技術(shù)將無法有所進展，這也顯示出光學(xué)薄膜技術(shù)研究發(fā)展的重要性。
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)指在光學(xué)元件或獨立基板上，制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜的組合，以改變光波之傳遞特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經(jīng)由適當(dāng)設(shè)計可以調(diào)變不同波段元件表面之穿透率及反射率，亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)薄膜干涉原理：
光既然是一種電磁波，所以在傳播過程中，應(yīng)該變現(xiàn)出所具有的特征-----干涉、衍射、偏振等現(xiàn)象。
薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得*束光，折射光經(jīng)薄膜下表面反射，又經(jīng)上表面折射后得第二束光，這兩束光在薄膜的同側(cè)，由同一入射振動分出，是相干光，屬分振幅干涉。若光源為擴展光源，則只能在兩相干光束的特定重疊區(qū)才能觀察到干涉，故屬定域干涉。對兩表面互相平行的平面薄膜，干涉條紋定域在無窮遠(yuǎn)，通常借助于會聚透鏡在其像方焦面內(nèi)觀察;對楔形薄膜，干涉條紋定域在薄膜附近。
實驗和理論都證明，只有兩列光波具有一定關(guān)系時，才能產(chǎn)生干涉條紋，這些關(guān)系稱為相干條件。薄膜的想干條件包括三點： 兩束光波的頻率相同；束光波的震動方向相同，兩束光波的相位差保持恒定。
式中n為薄膜的折射率、t為入射點的薄膜厚度、α為薄膜內(nèi)的折射角、λ/2是由于兩束相干光在性質(zhì)不同的兩個界面上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理廣泛應(yīng)用于光學(xué)表面的檢驗、微小的角度或線度的精密測量、減反射膜和干涉濾光片的制備等。
光是由光源中原子或分子的運動狀態(tài)發(fā)生變化輻射出來的，每個原子或分子每一次發(fā)出的光波，只有短短的一列，持續(xù)時間約為10億秒對于兩個獨立的光源來說，產(chǎn)生干涉的三個條件，特別是相位相同或相位差恒定不變這個條件，很不容易滿足，所以兩個獨立的一般光源是不能構(gòu)成相干光源的。不僅如此，即使是同一個光源上不同部分發(fā)出的光，由于它們是不同的原子或分子所發(fā)出的，一般也不會干涉。
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)特點分類：
主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等，它們在國民經(jīng)濟和國防建設(shè)中得到廣泛的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍的減??；采用高反射膜比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高，利用光學(xué)薄膜可提高硅電池的效率和穩(wěn)定性。
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，起表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各種向異性，膜層具有復(fù)雜的時間效應(yīng)。
反射膜一般可分為兩類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜，功能是增加光學(xué)表面的反射率。
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。
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更新時間：2016-11-14 
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